各位專家、學者:
《專利法研究》是國家知識產權局出版的學術性年刊,首期發(fā)行于1991年9月,由國家知識產權條法司負責編輯。本刊以毛澤東思想、鄧小平理論、“三個代表”重要思想、科學發(fā)展觀和習近平新時代中國特色社會主義思想為指導,以實事求是、理論聯系實際為辦刊宗旨,主要刊登專利等知識產權理論和實踐方面的學術性論文和有關譯文,向全國知識產權理論和實務工作者提供一個思想和觀點交流的平臺。隨著國家知識產權局重新組建,以及專利、商標、原產地地理標志和集成電路布圖設計等管理職責的整合,本刊也將進一步增加商標和地理標志內容板塊。
為充分實現本刊辦刊宗旨和目標,使各位專家學者、同仁的研究成果和實踐心得能為更多的人分享,現誠摯邀請您為本刊撰稿,為知識產權事業(yè)的發(fā)展集思廣益、建言獻策。
關于來稿的有關事項,說明如下:
1. 來稿應具有科學性、創(chuàng)新性和前瞻性,具有較強的理論意義或實踐意義,并具有一定的學術價值。篇幅一般不超過12000字。
對于涉及以下主題的稿件,本刊優(yōu)先采用:
?。?)創(chuàng)新驅動發(fā)展與我國知識產權制度
?。?)國際知識產權制度的發(fā)展趨勢及我國的應對策略
(3)專利法律制度專題研究
?。?)商標法律制度專題研究
(5)地理標志保護制度研究
?。?)知識產權基本法研究
(7)一帶一路沿線國家知識產權法制狀況研究
?。?)知識產權代理行業(yè)的發(fā)展實踐研究
2. 來稿請于2019年9月31日前以電子件發(fā)給zlfyj@sipo.gov.cn,請勿一稿多投。
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8. 本刊一經出版,本編輯部將從速酌致稿酬,并贈送當期本刊兩冊。
國家知識產權局條法司
2019年5月16日